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應(yīng)用:電廠迴圈化學(xué)監(jiān)測(cè);發(fā)電機(jī)定子冷卻;微電子超純水;純水處理系統(tǒng)
規(guī)格 - 純水光學(xué)溶解氧感測(cè)器
操作範(fàn)圍 | 0 - 5000ppb |
精度 | ± 2% 或 ± 2 ppb, 以較高者為準(zhǔn) |
反應(yīng)時(shí)間 | 98% of final value in < 20 s 98%的z終值小於20秒 |
測(cè)量溫度範(fàn)圍 | 10 – 50 °C (50 – 122 °F) |
環(huán)境溫度範(fàn)圍 | 0 – 121 °C (32 – 250 °F) |
操作壓力 | 0.2 – 12 bar (2.9 – 174 psi absolute) |
機(jī)械耐壓 | Maximum 12 bar (174 psi absolute) 不超過(guò)12 bar |
行業(yè) /應(yīng)用 | 要求z苛刻的低 ppb 級(jí)電廠和微電子純水應(yīng)用 |
檢測(cè)範(fàn)圍 | .8ppb |
特點(diǎn)和益處:在測(cè)量低ppb水準(zhǔn)的應(yīng)用中,精確度高,反應(yīng)迅速,穩(wěn)定性遞增。低檢測(cè)限制,漂移z小化,反應(yīng)時(shí)間短,這些性能幫助您提高溶氧監(jiān)測(cè)。相比競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手同類型號(hào)產(chǎn)品,反應(yīng)時(shí)間快了33%。享有zhuan利的光學(xué)帽傳感元件提供超高精度測(cè)量和不需要電解液的簡(jiǎn)單維護(hù)。光學(xué)帽消除了極化要求,增加了測(cè)量系統(tǒng)的實(shí)用性同時(shí)減少了停機(jī)時(shí)間。ISM技術(shù)讓前瞻性維護(hù)伴隨預(yù)測(cè)診斷工具成為可能。
應(yīng)用:電廠迴圈化學(xué)監(jiān)測(cè);發(fā)電機(jī)定子冷卻;微電子超純水;純水處理系統(tǒng)
規(guī)格 - 純水光學(xué)溶解氧感測(cè)器
操作範(fàn)圍 | 0 - 5000ppb |
精度 | ± 2% 或 ± 2 ppb, 以較高者為準(zhǔn) |
反應(yīng)時(shí)間 | 98% of final value in < 20 s 98%的z終值小於20秒 |
測(cè)量溫度範(fàn)圍 | 10 – 50 °C (50 – 122 °F) |
環(huán)境溫度範(fàn)圍 | 0 – 121 °C (32 – 250 °F) |
操作壓力 | 0.2 – 12 bar (2.9 – 174 psi absolute) |
機(jī)械耐壓 | Maximum 12 bar (174 psi absolute) 不超過(guò)12 bar |
行業(yè) /應(yīng)用 | 要求z苛刻的低 ppb 級(jí)電廠和微電子純水應(yīng)用 |
檢測(cè)範(fàn)圍 | .8ppb |
特點(diǎn)和益處:在測(cè)量低ppb水準(zhǔn)的應(yīng)用中,精確度高,反應(yīng)迅速,穩(wěn)定性遞增。低檢測(cè)限制,漂移z小化,反應(yīng)時(shí)間短,這些性能幫助您提高溶氧監(jiān)測(cè)。相比競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手同類型號(hào)產(chǎn)品,反應(yīng)時(shí)間快了33%。享有zhuan利的光學(xué)帽傳感元件提供超高精度測(cè)量和不需要電解液的簡(jiǎn)單維護(hù)。光學(xué)帽消除了極化要求,增加了測(cè)量系統(tǒng)的實(shí)用性同時(shí)減少了停機(jī)時(shí)間。ISM技術(shù)讓前瞻性維護(hù)伴隨預(yù)測(cè)診斷工具成為可能。
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